nine_inch_nerd schreef op 28 december 2025 12:41:
Hier nog een goede onderbouwing waarom.
Om een gevoel te geven hoe het China verhaal ingeschat moet worden.
China - EUV - rest van de wereld: complexiteit, de rol en afhankelijkheid van wereldwijde bedrijven.
De grafiek van vandaag, als weerspiegeling van recent nieuws over een "doorbraak in EUV onder de radar in China", waarbij sprake is van industriële spionage, reverse engineering en het samenvoegen van oude DUV-lithografieapparatuuronderdelen die op Alibaba zijn gevonden tot een "fabrieksgrote functionele EUV-machine die de komende jaren op grote schaal geproduceerd zal worden" (bron: Reuters). Het patentlandschap van EUV-lithografie is een zeer geconcentreerd, maar volledig geïndustrialiseerd ecosysteem: de Europese bedrijven ASML (NL) en Carl Zeiss AG (GER) domineren met een ruime marge, wat hun effectieve monopolie op intellectueel eigendom van EUV-systemen en -optiek weerspiegelt, terwijl toonaangevende gieterijen Taiwan Semiconductor Manufacturing Company (TW) en Samsung Electronics (KOR) hun aanzienlijke patentactiviteit richten op EUV-procesintegratie in plaats van op hardware. Een breed scala aan Japanse bedrijven ondersteunt het ecosysteem met volwaardige patenten op het gebied van maskers, resists, optiek, pellicles en reinigingstechnologieën, wat de essentiële rol van Japan in EUV-ondersteunende subsystemen aantoont. De EUV-gerelateerde patenten en producten van Tokyo Electron richten zich op... De stappen omvatten afzetting, reiniging, resistverwerking, spoorsystemen en patroonoverdracht. Amerikaanse leveranciers zoals Applied Materials, Lam Research en KLA dragen selectiever bij aan afzetting, etsen en metrologie, wat illustreert hoe de complexiteit van EUV zich door het hele productieproces verspreidt. Opvallend is dat de Chinese aanwezigheid in EUV-specifieke patenten minimaal tot vrijwel afwezig is. China blijft grotendeels uitgesloten van de kern van EUV-systeem-, optiek- en proces-IP. >Jonas Sundqvist